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首页>>北京瑞科中仪科技有限公司>>产品展示>>原子层沉积

  • ALD 原子层沉积 参考价:面议

    ALD 原子层沉积原理通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制。区别于普通CVD或PECVD原理,ALD可沉积超薄的、无针孔和颗粒...
    型号: 厂商性质:经销商所在地:北京市 对比
    ALD原子层沉积
    2024/3/18 11:02:432286

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